關于熱噴涂旋轉靶材

       熱噴涂旋轉靶材的顯微組織為圓餅狀扁平細晶粒,晶粒取向平行于旋轉軸方向。組織內有大量微米級孔洞,整體孔隙率高達5~20%?？紫兜臄盗亢托螤顝娏业匾蕾囉谑褂玫耐繉硬牧?、噴涂技術和氣體流量。氣孔與靶材制備和儲存中的環境濕度、氧氣的吸附和脫附直接相關。因此,熱噴涂靶材在濺射前必須用隔離的前級泵除去表面吸附氣體。 

       熱噴涂可使用棒材、線材和粉狀顆粒的涂層材料,熔融前不會蒸發,因而熱噴涂制靶技術適用于金屬、合金和陶瓷等多種材料。熔鑄靶材技術僅限于熔點和澆鑄設備相匹配的金屬或合金材料,脆性陶瓷不適合澆鑄,熔點太高則需要特別的澆鑄設備。而且一些陶瓷材料在達到熔點之前會升華或分解。  

       熱噴涂旋轉靶材是把涂層材料直接噴涂于襯管上,不需要另外的粘結工序。這和低熔點金屬(熔點<450℃)的直接澆鑄和整體式甩帶澆鑄相同。然而，Ag等一些熔點較高的“軟”金屬必需分別粘結。