合金靶材的濺射原理

　　合金靶材的濺射原理：

　　對濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。

　　濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。

　　歐凱靶材專業生產和銷售真空磁控濺射靶材。擁有專業的研發和銷售售后服務隊伍，為客戶提供良好的技術支持和售后服務。產品主要有：鈦、鉻、鎳、鋯、鈦鋁等有色金屬及合金的管、棒、板等鍍膜靶材。我們為裝飾和功能鍍膜工業、平面顯示工業、光數據儲存工業(光盤工業)、光通訊工業、玻璃鍍膜(建筑玻璃和汽車玻璃)工業等行業提供專業的服務。